20-0010
25 970
25 970 AMD
Материал наконечников — полипропилен;
автоклавируемые;
свободны от ДНК-аз, РНК-аз, апирогенны.
23-0010
96 шт./штат., 10 штат./уп., 10 уп./кор.
Материал наконечников — полипропилен;
автоклавируемые;
свободны от ДНК-аз, РНК-аз, апирогенны.
23-0011
Материал наконечников — полипропилен;
автоклавируемые;
свободны от ДНК-аз, РНК-аз, апирогенны.
Особенности Low Retention:
ультраоднородная поверхность для максимальной воспроизводимости;
ультрагидрофобная поверхность для минимизации потерь пробы;
значительное сокращение пенообразования при пипетировании.
22-0010уп
1000 шт./уп
1000 шт./уп., 10 уп./кор.
22-0010уп
1000 шт./уп
18 958
18 958 AMD
22-0010
1000 шт./уп., 10 уп./кор.
105 555
105 555 AMD
Характеристики
Материал наконечников — полипропилен;
автоклавируемые;
свободны от ДНК-аз, РНК-аз, апирогенны.
21-0010
77 117
77 117 AMD
Материал наконечников — полипропилен;
автоклавируемые;
свободны от ДНК-аз, РНК-аз, апирогенны.
22-0200уп
1000 шт./уп
1000 шт./уп., 10 уп./кор.
22-0200уп
1000 шт./уп
22-0200
1000 шт./уп., 10 уп./кор.
Характеристики
Материал наконечников — полипропилен;
автоклавируемые;
свободны от ДНК-аз, РНК-аз, апирогенны.
22-0201
Материал наконечников — полипропилен;
автоклавируемые;
свободны от ДНК-аз, РНК-аз, апирогенны.
Особенности Low Retention:
ультраоднородная поверхность для максимальной воспроизводимости;
ультрагидрофобная поверхность для минимизации потерь пробы;
значительное сокращение пенообразования при пипетировании.
21-0200
81 216
81 216 AMD
Материал наконечников — полипропилен;
автоклавируемые;
свободны от ДНК-аз, РНК-аз, апирогенны.
23-0200уп
8 126
8 126 AMD
Материал наконечников – полипропилен;
автоклавируемые;
свободны от ДНК-аз, РНК-аз, апирогенны.
23-0200
Материал наконечников — полипропилен;
автоклавируемые;
свободны от ДНК-аз, РНК-аз, апирогенны.
23-0201уп
10 шт../уп
96 шт./штатив, 50 шт./уп
23-0201уп
10 шт../уп
23-0201
96 шт./штатив, 50 шт./уп
Характеристики
Материал наконечников — полипропилен;
автоклавируемые;
свободны от ДНК-аз, РНК-аз, апирогенны.
Особенности Low Retention:
ультраоднородная поверхность для максимальной воспроизводимости;
ультрагидрофобная поверхность для минимизации потерь пробы;
значительное сокращение пенообразования при пипетировании.
21-1250
83 823
83 823 AMD
Материал наконечников — полипропилен;
автоклавируемые;
свободны от ДНК-аз, РНК-аз, апирогенны.
22-1001
Материал наконечников — полипропилен;
автоклавируемые;
свободны от ДНК-аз, РНК-аз, апирогенны.
Особенности Low Retention:
ультраоднородная поверхность для максимальной воспроизводимости;
ультрагидрофобная поверхность для минимизации потерь пробы;
значительное сокращение пенообразования при пипетировании.
21-1000
79 601
79 601 AMD
Материал наконечников — полипропилен;
автоклавируемые;
свободны от ДНК-аз, РНК-аз, апирогенны.
23-1000уп
96 шт./штатив, 6 штат./уп.
96 шт./штатив, 6 штат./уп., 10 уп./кор.
23-1000уп
96 шт./штатив, 6 штат./уп.
11 500
11 500 AMD
23-1000
96 шт./штатив, 6 штат./уп., 10 уп./кор.
105 555
105 555 AMD
Характеристики
Материал наконечников — полипропилен;
автоклавируемые;
свободны от ДНК-аз, РНК-аз, апирогенны.
20-1000
45 203
45 203 AMD
Материал наконечников — полипропилен;
автоклавируемые;
свободны от ДНК-аз, РНК-аз, апирогенны.
20-1250
51 908
51 908 AMD
Материал наконечников — полипропилен;
автоклавируемые;
свободны от ДНК-аз, РНК-аз, апирогенны.
22-1000уп
1000 шт./уп
1000 шт./уп., 10 уп./кор
22-1000уп
1000 шт./уп
12 148
12 148 AMD
22-1000
1000 шт./уп., 10 уп./кор
121 451
121 451 AMD
Характеристики
Материал наконечников — полипропилен;
автоклавируемые;
свободны от ДНК-аз, РНК-аз, апирогенны.