20-0010
26 031
26 031 AMD
Материал наконечников — полипропилен;
автоклавируемые;
свободны от ДНК-аз, РНК-аз, апирогенны.
23-0010
96 шт./штат., 10 штат./уп., 10 уп./кор.
Материал наконечников — полипропилен;
автоклавируемые;
свободны от ДНК-аз, РНК-аз, апирогенны.
23-0011
Материал наконечников — полипропилен;
автоклавируемые;
свободны от ДНК-аз, РНК-аз, апирогенны.
Особенности Low Retention:
ультраоднородная поверхность для максимальной воспроизводимости;
ультрагидрофобная поверхность для минимизации потерь пробы;
значительное сокращение пенообразования при пипетировании.
22-0010уп
1000 шт./уп
1000 шт./уп., 10 уп./кор.
22-0010уп
1000 шт./уп
19 002
19 002 AMD
22-0010
1000 шт./уп., 10 уп./кор.
105 802
105 802 AMD
Характеристики
Материал наконечников — полипропилен;
автоклавируемые;
свободны от ДНК-аз, РНК-аз, апирогенны.
21-0010
77 297
77 297 AMD
Материал наконечников — полипропилен;
автоклавируемые;
свободны от ДНК-аз, РНК-аз, апирогенны.
22-0200уп
1000 шт./уп
1000 шт./уп., 10 уп./кор.
22-0200уп
1000 шт./уп
22-0200
1000 шт./уп., 10 уп./кор.
Характеристики
Материал наконечников — полипропилен;
автоклавируемые;
свободны от ДНК-аз, РНК-аз, апирогенны.
22-0201
Материал наконечников — полипропилен;
автоклавируемые;
свободны от ДНК-аз, РНК-аз, апирогенны.
Особенности Low Retention:
ультраоднородная поверхность для максимальной воспроизводимости;
ультрагидрофобная поверхность для минимизации потерь пробы;
значительное сокращение пенообразования при пипетировании.
21-0200
81 405
81 405 AMD
Материал наконечников — полипропилен;
автоклавируемые;
свободны от ДНК-аз, РНК-аз, апирогенны.
23-0200уп
8 145
8 145 AMD
Материал наконечников – полипропилен;
автоклавируемые;
свободны от ДНК-аз, РНК-аз, апирогенны.
23-0200
Материал наконечников — полипропилен;
автоклавируемые;
свободны от ДНК-аз, РНК-аз, апирогенны.
23-0201уп
10 шт../уп
96 шт./штатив, 50 шт./уп
23-0201уп
10 шт../уп
23-0201
96 шт./штатив, 50 шт./уп
Характеристики
Материал наконечников — полипропилен;
автоклавируемые;
свободны от ДНК-аз, РНК-аз, апирогенны.
Особенности Low Retention:
ультраоднородная поверхность для максимальной воспроизводимости;
ультрагидрофобная поверхность для минимизации потерь пробы;
значительное сокращение пенообразования при пипетировании.
21-1250
84 019
84 019 AMD
Материал наконечников — полипропилен;
автоклавируемые;
свободны от ДНК-аз, РНК-аз, апирогенны.
22-1001
Материал наконечников — полипропилен;
автоклавируемые;
свободны от ДНК-аз, РНК-аз, апирогенны.
Особенности Low Retention:
ультраоднородная поверхность для максимальной воспроизводимости;
ультрагидрофобная поверхность для минимизации потерь пробы;
значительное сокращение пенообразования при пипетировании.
21-1000
79 787
79 787 AMD
Материал наконечников — полипропилен;
автоклавируемые;
свободны от ДНК-аз, РНК-аз, апирогенны.
23-1000уп
96 шт./штатив, 6 штат./уп.
96 шт./штатив, 6 штат./уп., 10 уп./кор.
23-1000уп
96 шт./штатив, 6 штат./уп.
11 527
11 527 AMD
23-1000
96 шт./штатив, 6 штат./уп., 10 уп./кор.
105 802
105 802 AMD
Характеристики
Материал наконечников — полипропилен;
автоклавируемые;
свободны от ДНК-аз, РНК-аз, апирогенны.
20-1000
45 308
45 308 AMD
Материал наконечников — полипропилен;
автоклавируемые;
свободны от ДНК-аз, РНК-аз, апирогенны.
20-1250
52 029
52 029 AMD
Материал наконечников — полипропилен;
автоклавируемые;
свободны от ДНК-аз, РНК-аз, апирогенны.
22-1000уп
1000 шт./уп
1000 шт./уп., 10 уп./кор
22-1000уп
1000 шт./уп
12 177
12 177 AMD
22-1000
1000 шт./уп., 10 уп./кор
121 734
121 734 AMD
Характеристики
Материал наконечников — полипропилен;
автоклавируемые;
свободны от ДНК-аз, РНК-аз, апирогенны.